工藝製程的進步是摩爾定律的關鍵一環,目前商用的最先進是10nm,下一個關鍵節點是7nm,後者將宣告半導體正式邁進入10nm階段。
據EE Times報道,AMD CTO Mark Papermaster近日接受了采訪,他表示, AMD將是第一批采用7nm工藝的企業。
Mark認為,7nm是一個可以長期演進的工藝,就和當年的28nm一樣,所以Zen2和Zen3都會采用。
同時,工程團隊也能花費更多的精力在芯片的微架構和係統解決方案。
Mark並沒有透露AMD的7nm是否來自GF,但目前的確GF和台積電的進度最快。他還透露,EUV(極紫外光刻)技術最早引入的時間預計在2019年。
然而令人遺憾的是,Intel的10nm年底才能見到,而且也要和14nm一樣至少用3代。從這個角度看,Intel的7nm肯定不會早於AMD了。
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